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芯片里面的几十亿晶体管怎么弄的?

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发表于 2024-12-4 10:27:41 | 显示全部楼层 |阅读模式
‌芯片内部的几十亿晶体管是通过一系列复杂的制造工艺制造出来的。‌
制造工艺流程:
‌拉晶‌:首先将高纯度的硅材料熔化,并注入高纯氩气作为惰性气体保护,然后将单晶硅“种子”放入熔体中,缓慢旋转并拔出,形成单晶硅锭‌。
‌晶圆切片‌:将单晶硅锭切成独立的晶圆片‌。
‌晶圆研磨和侵蚀‌:使用旋转研磨机和氧化铝浆料对晶圆进行机械研磨,使其表面平整、平行,并在氮化酸/乙酸溶液中蚀刻去除微观裂纹或表面损伤‌。
‌硅片抛光和清洗‌:通过化学机械抛光(CMP)对晶圆进行抛光,使用越来越细的浆液和纯水进行清洗,最终使用SC1溶液(氨、过氧化氢和纯水)去除有机杂质和颗粒,然后用HF除去天然氧化物和金属杂质,最后使用SC2溶液使新的天然氧化物在表面生长‌。
‌外延加工‌:在高温下通过气相生长单晶硅层,形成外延层‌。
制造过程中的关键步骤和技术:
‌光刻‌:使用紫外线透过掩模版照射硅晶圆,被照到的地方会被溶解,形成所需的电路图案‌。
‌离子注入‌:在硅晶圆的不同位置注入不同的杂质,形成P型和N型半导体,从而构成场效应管‌。
‌蚀刻‌:通过干蚀刻和湿蚀刻去除不需要的部分,形成最终的电路结构‌。
‌热处理‌:包括快速热退火、退火和热氧化等步骤,以优化晶体管性能和结构‌。
‌化学气相淀积(CVD)‌:在芯片表面沉积所需的材料,进一步精细处理表面的各种物质‌。
芯片设计流程:
芯片设计分为前端设计和后端设计。前端设计(逻辑设计)负责电路的功能和逻辑设计,而后端设计(物理设计)则负责将设计转化为实际的制造图纸‌。设计完成后,通过专业的EDA工具进行制造。
通过这些复杂的工艺和设计流程,芯片内部的几十亿晶体管得以制造出来,形成了高度集成的电路系统。



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    发表于 2024-12-6 00:21:24 | 显示全部楼层
    很高兴能参与这个讨论。
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    发表于 2024-12-6 10:08:33 | 显示全部楼层
    我同意你的看法,这确实是个重要的问题。
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