icp-aes的干扰及消除

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icp-aes的干扰主要包括光谱干扰、物理干扰、化学干扰与电离干扰。其消除方法包括干扰系数法、多谱线拟合程序、背景校正技术、基体匹配法等。
icp-aes的干扰：
1.光谱干扰：
光谱干扰是ICP-AES分析中最常见的问题，主要是由于仪器的色散率和分辨率不足导致元素间的谱线重叠。
此类干扰分为谱线重叠干扰和背景干扰。谱线重叠干扰可以通过选择分辨率更高的分光系统来减少，而背景干扰则可以通过现代仪器具备的背景校正技术来扣除。
2.物理干扰：
物理干扰主要涉及溶液的粘度、比重和表面张力等物理性质对分析结果的影响。
这种干扰可以通过保持标准试液与待测试样在基体组成、总盐度、有机溶剂和酸的浓度等方面的一致性来减轻。
使用蠕动泵进样和内标校正法也可以补偿物理干扰的影响。
3.化学干扰：
在ICP-AES中，化学干扰相对较少，通常可以忽略不计。
这是由于ICP的高温和高电子数密度使得样品中的化学键很容易被破坏，减少了化学干扰的可能性。
4.电离干扰：
电离干扰涉及到样品中易电离元素对分析结果的影响。
尽管ICP比其他光源受此影响较小，但在某些情况下仍需优化等离子体参数或使用双向观察技术来减少此类干扰。
icp-aes的干扰消除方法：
1.干扰系数法：
通过实验确定干扰元素对分析元素的影响程度，并计算干扰系数。
在知道干扰元素浓度的情况下，可以利用干扰系数来校正分析结果。
2.多谱线拟合程序：
当存在复杂谱线重叠时，单一干扰系数可能无法准确校正，此时需要采用多谱线拟合程序来进行更复杂的校正。
3.背景校正技术：
利用先进的背景校正技术可以有效扣除由于连续发射形成的带状光谱叠加在分析线上的背景干扰。
4.基体匹配法：
通过模拟样品的基体组成，制备与待测样品相似的标准溶液，以消除基体效应的干扰。
5.标准加入法：
将已知量的标准溶液加入到样品中，观察分析信号的变化，以此来确定样品中目标元素的浓度，可以减少基体效应的影响。
6.内标校正法：
选择一种与分析元素行为相似的元素作为内标，对其进行同步测量，以校正样品处理过程中可能引入的误差。
7.分离技术：
在样品前处理阶段应用分离技术，如萃取、色谱等，以去除或减少干扰物质的浓度，减轻或消除基体干扰。

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